နာနိုနည်းပညာ: တည်းဖြတ်မှု မူကွဲများ

နန်နိုစကေးဒြပ်ဝတ္ထုပစ္စည်း (Nanoscale Materials) များသည် ၎င်း၏သေးငယ်သော ဒြပ်ပစ္စည်း အရွယ်ကမာဏ၏ ထူးကဲသော ရုပ်ပိုင်း၊ ဓါတ်ပိုင်းဂုဏ်သတ္တိများကြောင့်ဓာတ်ပိုင်းဂုဏ်သတ္တိများကြောင့် စိတ်ဝင်စားဖွယ် ကောင်းလှပေသည်။ အထူးသဖြင့် ဓါတုဗေဒပညာရှင်များ၊ ရူပဗေဒပညာရှင်များ၊ သတ္တုဗေဒပညာရှင်များသည် နည်းပညာအသစ်ဖြစ်သော ဖွံ့ဖြိုးလာနေသည့် နန်နိုနည်းပညာကို စိတ်ဝင်စားလာကြပေသည်။

နန်နိုဒြပ်ဝတ္ထုပစ္စည်းများသည် အီလက်ထရောနစ်ပစ္စည်းများ၊ ဓါတ်ကူပစ္စည်းများဓာတ်ကူပစ္စည်းများ (နန်နိုအရည် (Nanofluid) - အင်ဂျင်၏စွမ်းဆောင်ရည်ကို ပိုမိုကောင်းမွန်စေခြင်း)၊ Lasing Materials များအဖြစ် သေးငယ်သည်ထက်သေးငယ်အောင် ပြုလုပ်ရာတွင် အလွန်အရေးကြီးလှပေသည်။ နန်နိုဒြပ်ပစ္စည်းတို့၏ ရုပ်ပိုင်း၊ ဓါတ်ပိုင်းဂုဏ်သတ္တိများသည်ဓာတ်ပိုင်းဂုဏ်သတ္တိများသည် ၎င်း၏အရွယ်ပမာဏ (Size) ပေါ်တွင် များစွာမူတည်နေသည့်အတွက် သေးငယ်သည်ထက် သေးငယ်သောဒြပ်ပစ္စည်းများ ဖြစ်ပေါ်စေရန် ဆန်းသစ်သော နည်းနိဿယ၊ နည်းပညာကျွမ်းကျင်မှု့တို့ အထူးဖွံ့ဖြိုးတိုးတက် နေစေဖို့ လိုအပ်လှပေသည်။

လက်ရှိကာလတွင် Pulsed Nd:YAG လေဆာ Ablation နည်းစနစ်ကိုသုံး၍ အရည်ကြားခံနယ်တွင် သတ္တုနှင့်သတ္တုအောက်ဆိုဒ် နန်နိုဒြပ်ပစ္စည်း (metal oxide Nanoparticles) များဖြစ်ပေါ်စေခြင်း နှင့် အရွယ်အစားထိန်းချုပ်ခြင်းမှာ နည်းနိဿယအသစ်၊ နည်းစနစ်အသစ် (New Technique) ဖြစ်ပေသည်။ နန်နိုဒြပ်ပစ္စည်းတို့၏ အရွယ်ပမာဏ၊ ပုံပန်းသဏ္ဍာန်၊ ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံတို့မှာ လေဆာဓာတ်ရောင်ခြည်၏ အတိုင်းအတာဘောင်၊ သက်မှတ်ချက်အတိုင်းအတာဘောင် များပေါ်တွင်များစွာ မူတည်နေပေသည်။ အထူးသဖြင့် ဓာတ်ရောင်ခြည်ပေးမှုပုံစံ၊ ဓာတ်ရောင်ခြည် လှိုင်းတွန့် တစ်ခုနှင့်တစ်ခုအကွာအဝေး (ဝါ) လှိုင်းအလျား၊ ဓါတ်ရောင်ခြည်လှိုင်း၏အကျယ်၊ဓာတ်ရောင်ခြည်လှိုင်း၏အကျယ်၊ ဓာတ်ရောင်ခြည်လှိုင်း သက်ရောက်မှုအကြိမ်ပေါင်း၊ အရည်ကြားခံ၏ အပူချိန်၊ ပြုလုပ်စမ်းသပ်သည့် သတ္တုမျက်နှာပြင် အထက်ထားရှိသည့် ကြားခံအရည်၏ အမြင့်၊ အသုံးပြုသည့်ဓာတ်ကူ ပစ္စည်း၏ပြင်းအား စသည်တို့ကိုဂရုပြုရပေမည်။

အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည် အသုံးပြု၍ ဓါတု အနုစိပ်လေ့လာခြင်း၏ အခြေခံသဘောတရားမှာ သေးသွယ်၊ ကျဉ်းမြောင်း၊ တိကျသော အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်ဖြင့် အစိုင်အခဲ တစ်ခုအပေါ်သို့ပစ်လွှတ်၍ ဖြစ်ပေါ်ရရှိလာသည့် အကျိုးဆက်ကို လေ့လာကြည့်ခြင်းပင်ဖြစ်ပေသည်။ ပစ်လွှတ်လိုက်သော အီလက်ထရွန်များသည် အရာဝတ္ထု အစိုင်အခဲနှင့် တွေ့ထိသက်ရောက်သည်နှင့် တပြိုင်နက် ပစ်လွှတ်အီလက်ထရွန်များ၏ မူလစွမ်းအင်နှင့် လားရာလမ်းကြောင်းမှာ ပြောင်းလဲသွားသည်နှင့်အတူ အပစ်ခံဝတ္ထု အစိုင်အခဲမှလည်း အိတ်ဇ်-ရောင်ခြည် (X- Rays) နှင့် အီလက်ထရွန် (အော်ဂါ-အီလက်ထရွန်, Auger electron)တို့ တပြိုင်နက်တည်း ထုတ်လွှတ်ပေသည်။ အော်ဂါ-အီလက်ထရွန် (Auger electron)မှာ အပစ်ခံ အစိုင်အခဲ၊ ဝတ္ထု (Specimen)မှ အိတ်ဇ်-ရောင်ခြည် (X-Rays)နှင့်အတူ တပြိုင်တည်း ထွက်လာသည်မှာမှန်သော်လည်း ၎င်း၏ စွမ်းအင်မှာ (Low energy) နည်းလှပေသည်။ ဆိုလိုသည်မှာ ၎င်းအော်ဂါ-အီလက်ထရွန်များသည် အပစ်ခံ အစိုင်အခဲ၊ ဝတ္ထု(Specimen)၏ မျက်နှာပြင်နှင့် အနီးဆုံးတွင်သာ ဖြစ်ပေါ်လာနိုင်ပေသည်။ ထိုသို့ အပစ်ခံ အစိုင်အခဲ၊ ဝတ္ထု၏မျက်နှာပြင်နှင့် အနီးဆုံးတွင်သာ ဖြစ်ပေါ်သည့်အတွက် အော်ဂါ-Spectroscopy ကိုအသုံးပြု၍ အစိုင်အခဲ၊ ဝတ္ထု(Specimen)၏ မျက်နှာပြင်ကို အထူးပြု လေ့လာနိုင်ပေသည်။ အစိုင်အခဲ၊ ဝတ္ထု(Specimen)ပေါ်တွင် ပစ်လွှတ်အီလက်ထရွန်ကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာမည့် အကျိုးသက်ရောက်မှုနှင့် အပစ်ခံ အစိုင်အခဲ၊ ဝတ္ထု (Specimen)မှ ထွက်ပေါ်လာမည့် အမျိုးမျိုးသော ဓါတ်ရောင်ခြည်တို့ကိုလေ့လာခြင်းအားဖြင့်၊ဓာတ်ရောင်ခြည်တို့ကိုလေ့လာခြင်းအားဖြင့်၊ အပစ်ခံ အစိုင်အခဲ၊ ဝတ္ထု၏ ဓါတုဖွဲ့စည်းမှု (Chemical composition)ကို လွယ်ကူစွာ အဖြေထုတ်နိုင်မည် ဖြစ်ပေသည်။