နာနိုနည်းပညာ: တည်းဖြတ်မှု မူကွဲများ
Content deleted Content added
အရေးမကြီး ဘော့ - စာသားများကို အလိုအလျောက် အစားထိုးခြင်း (-သဏ္ဍာန် +သဏ္ဌာန်) |
အရေးမကြီး ဘော့ - စာသားများကို အလိုအလျောက် အစားထိုးခြင်း (-ရလာဒ် +ရလဒ်) |
||
စာကြောင်း ၅၄ -
လက်ရှိကာလတွင် Pulsed Nd:YAG လေဆာ Ablation နည်းစနစ်ကိုသုံး၍ အရည်ကြားခံနယ်တွင် သတ္တုနှင့်သတ္တုအောက်ဆိုဒ် နန်နိုဒြပ်ပစ္စည်း (metal oxide Nanoparticles) များဖြစ်ပေါ်စေခြင်း နှင့် အရွယ်အစားထိန်းချုပ်ခြင်းမှာ နည်းနိဿယအသစ်၊ နည်းစနစ်အသစ် (New Technique) ဖြစ်ပေသည်။ နန်နိုဒြပ်ပစ္စည်းတို့၏ အရွယ်ပမာဏ၊ ပုံပန်းသဏ္ဌာန်၊ ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံတို့မှာ လေဆာဓာတ်ရောင်ခြည်၏ အတိုင်းအတာဘောင်၊ သက်မှတ်ချက်အတိုင်းအတာဘောင် များပေါ်တွင်များစွာ မူတည်နေပေသည်။ အထူးသဖြင့် ဓာတ်ရောင်ခြည်ပေးမှုပုံစံ၊ ဓာတ်ရောင်ခြည် လှိုင်းတွန့် တစ်ခုနှင့်တစ်ခုအကွာအဝေး (ဝါ) လှိုင်းအလျား၊ ဓာတ်ရောင်ခြည်လှိုင်း၏အကျယ်၊ ဓာတ်ရောင်ခြည်လှိုင်း သက်ရောက်မှုအကြိမ်ပေါင်း၊ အရည်ကြားခံ၏ အပူချိန်၊ ပြုလုပ်စမ်းသပ်သည့် သတ္တုမျက်နှာပြင် အထက်ထားရှိသည့် ကြားခံအရည်၏ အမြင့်၊ အသုံးပြုသည့်ဓာတ်ကူ ပစ္စည်း၏ပြင်းအား စသည်တို့ကိုဂရုပြုရပေမည်။
ထုတ်လုပ်မည့်နန်နိုဒြပ်ပစ္စည်း၏ အရွယ်အစား၊ ပုံပန်းသဏ္ဌာန်၊ ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံတို့ကို ထိန်းချုပ်နိုင်ရန်အတွက် လေဆာဓာတ်ရောင်ခြည်၏ အတိုင်းအတာဘောင်၊ သတ်မှတ်ချက် အတိုင်းအတာဘောင်ကို ပမာဏများများ အသုံးပြုနိုင်ခြင်းကပင်လျှင် ယခုလေ့လာမှု၏
== နိဂုံး ==
| |||